Equipamento de limpeza UV

O equipamento de limpeza fotolítica UV da WACKANG usa o feixe UV UV de alto ozônio para decompor as moléculas de oxigênio no ar para gerar oxigênio livre, e a eficiência de desodorização deste equipamento pode atingir 90%. Forte capacidade de adaptação e baixos custos operacionais podem alcançar emissões inofensivas.

Estrutura do equipamento de limpeza UV

O equipamento de purificação fotolítica UV é composto por um gerador de microondas, um gerador de ozônio iônico, uma caixa de controle, um filtro de médio efeito, um catalisador óptico de dióxido de titânio e um corpo externo.

Princípio de funcionamento do equipamento de limpeza UV

O uso de raios UV de alto ozônio irradiar gases orgânicos e moléculas de oxigênio no ar, quebrar os laços moleculares de gases orgânicos e quebrar as moléculas de oxigênio no ar para produzir oxigênio livre, ou seja, oxigênio ativo, UV + O2 → O - + O * (oxigênio ativo) O + O2 → O3 (ozônio). As moléculas de poluentes em estado livre se combinam com a oxidação do ozônio para formar compostos inofensivos ou menos perigosos em pequenas moléculas, como CO2, H2O, etc. Consequentemente, o efeito de purificação do gás é alcançado. Capacidade de limpeza de até 99%.

Princípio de funcionamento do equipamento de limpeza UV 1

Engenharia de Reação:

1, UV + matéria orgânica molecular → matéria orgânica molecular baixa

UV + ar (O2) →O3

Materiais orgânicos de baixa molécula + O3 → CO2 + H2O + N2

Princípio de funcionamento do equipamento de limpeza UV

Vantagens do equipamento de limpeza UV

Parâmetros técnicos do equipamento de limpeza UV

Nota de dados: os dados acima são definidos por nossa empresa de acordo com os padrões de processamento habituais, nossa empresa ajustará o tamanho devido à melhoria do processo real e à concentração de gases de escape, os clientes devem ajustar o tamanho devido às restrições do local, nossa empresa pode configurar separadamente de acordo com a situação do local, o tamanho real é baseado no documento de orçamento e contrato de compra, instalação do equipamento, por favor, siga as instruções.

Aplicações de equipamentos de limpeza UV

Tipos de gases de escape aplicáveis para equipamentos de purificação fotolítica UV:

Equipamento de desodorização para: acetona, butona, acetato de éster etílico, VOC 、 Odores e gases de escape como formaldeído, acetaldeído, acetato de etilo, benzeno, torfenilo, ditafenilo, estireno, alcanos, olefinas, hidrocarbonetos de etileno, hidrocarbonetos aromáticos, fenóis, sulfeto de hidrogênio, sulfol, enxofre, amônia, aminas, pipão, nitro.

Principais fontes de gases de escape

sulfeto de hidrogênio

Produção ou processamento de celulose de pele de vaca, refinaria de petróleo, coque, petroquímica, gás, eliminação de fezes, disulfeto de carbono

Tipo de sulfol

Celulose de pele, refinaria de óleo, gás, farmacêutica, pesticidas, ésteres de árvore sintéticos, fibras sintéticas, borracha

Tipo de enxofre

Celulose de pele de vaca, refinaria de óleo, pesticidas, eliminação de resíduos, esgotos domésticos

Amônia

Fertilizante nitrogênico, ácido nítrico, alcocalização, tratamento de fezes, processamento de carne

Aminas

Processamento aquático, pecuário, couro, cola óssea

Categorias

Tratamento de fezes, tratamento de águas residuais domésticas, alcóqueo, carne podre, abate de gado

Nitro

Combustível, explosivos

Hidrocarbonos

Refinação de óleo, coque, petroquímica, eletrochitro, fertilizantes químicos, escape de motores de combustão interna, tintas, solventes, impressão com tinta

Aldeidos

Refinação de petróleo, petroquímica, medicina, escape de motores de combustão interna, eliminação de resíduos

Casos de aplicação de equipamentos de limpeza UV

Projeto: Hebei Impressão Co., Ltd. Gestão de gás de escape

Principais ingredientes: tinta e gases de escape de alta temperatura emitidos no forno;

Volume de ar de tratamento: 32000m3/h;

Configuração do equipamento: um dispositivo de limpeza UV tipo Gj-UV30000; Um purificador de plasma

Norma de tratamento: implementar a norma de emissão de poluentes odorosos (GB14554-93) e a norma local de Hebei "limite de emissão de poluentes atmosféricos" (DB4427-2001).