Equipamento de oxidação fotocatalítica UV

Equipamento de oxidação fotocatalítica UV adota o conceito tecnológico mais avançado da China, desenvolvido por experimentação de longo prazo de técnicos, com propriedade intelectual independente, produtos de limpeza ambiental podem decompor substâncias tóxicas e perigosas nos gases de escape industriais e podem alcançar o efeito de desodorização e limpeza, os gases de escape industriais decompostos podem alcançar emissões inofensivas, não gerar poluição secundária, ao mesmo tempo que atingem o efeito de matar bactérias de alta eficiência.

O equipamento de oxidação fotocatalítica UV usa a destruição de raios nanoultravioletas de alta intensidade, quebra a cadeia molecular grande em cadeias moleculares pequenas, reutiliza o ozônio e a oxidação de radicais livres hidroxi, o catalisador para a oxidação catalítica, transformando a matéria orgânica em água e dióxido de carbono para alcançar o objetivo de remover a matéria orgânica.

Princípio de funcionamento do equipamento de oxidação fotocatalítica UV

Os fotocatalisadores semicondutores são principalmente materiais semicondutores tipo n (atualmente amplamente usados ​​como TiO2) que têm uma estrutura de banda de energia especial que se distingue do metal ou do isolante, ou seja, existe uma banda de restrição entre uma faixa de preço e uma faixa de condução.

Como o limiar de absorção de luz dos semicondutores tem uma relação com a faixa de banda K = 1240 / Eg (eV), o limiar de comprimento de onda de absorção dos semicondutores de faixa larga comumente usados ​​está principalmente na área ultravioleta. Quando a energia de fótons é superior ao limiar de absorção de semicondutores em semicondutores irradiados por luz, os eletrões da faixa de preço do semicondutor ocorrem saltos entre faixas, ou seja, saltos da faixa de preço para a faixa condutora, gerando assim eletrões fotogênicos (e-) e buracos vazios (h+). Neste momento, a adsorção de oxigênio dissolvido na superfície das nanopartículas captura os elétrons para formar íons superoxi negativos, enquanto o buraco absorve íons de raiz de hidrogênio na superfície do catalisador e oxida a água em radicais livres de hidrogênio. Os íons superoxi negativos e os radicais livres de hidrogênio têm uma forte oxidação, que pode oxidar a grande maioria dos produtos orgânicos em CO2 e H2O e até mesmo decompor alguns inorgânicos.

Vantagens do desempenho do equipamento de oxidação fotocatalítica UV

Eliminação do odor: pode remover os principais poluentes como os compostos orgânicos voláteis (COV), os inorgânicos, o sulfeto de hidrogênio, a amônia, o sulfol e vários tipos de odor, o efeito de desodorização supera significativamente o padrão de emissão de poluentes odorosos emitido em 1993 (GB14554-93) e o padrão de emissão abrangente de poluentes atmosféricos emitido em 1996 (GB16297-1996).

2, sem adição de qualquer substância: basta configurar o tubo de escape correspondente e a potência de escape para que o odor mau / gases de escape industriais sejam purificados através deste equipamento para desodorização e decomposição, sem a necessidade de adicionar qualquer substância envolvida na reação química.

3, forte adaptabilidade: GY-série de gases odorosos (gases de escape industriais) equipamento de limpeza de gases de escape fotolíticos UV pode se adaptar a altas concentrações, atmosfera, desodorização de diferentes substâncias de gases de escape industriais, tratamento de limpeza, pode trabalhar continuamente 24 horas por dia, operação estável e confiável.

4, baixo custo operacional: GY-série de gases odorosos (gases de escape industriais) equipamento de limpeza de gases de escape fotolíticos UV sem nenhum movimento mecânico, sem ruído, sem gestão pessoal e manutenção diária, basta fazer uma inspeção regular, o consumo de energia deste equipamento é baixo, a resistência do vento do equipamento é extremamente baixa <50pa, que pode economizar uma grande quantidade de consumo de energia do ar de escape.

5, o equipamento ocupa uma área pequena, auto-leve: adequado para a disposição compacta, espaço estreito e outras condições especiais, o equipamento ocupa uma área de <1 metro quadrado / volume de ar de 10000m3 / h.

Fabricação de materiais importados: alta resistência ao incêndio e à corrosão, estável desempenho do equipamento, uso de aço inoxidável, vida útil do equipamento de mais de quinze anos.

7, produtos de certificação à prova de explosão: o equipamento tem propriedades à prova de explosão, passou pela certificação Ex à prova de explosão do Centro de Inspeção e Supervisão de Qualidade de Produção de Equipamentos Elétricos à prova de explosão da China (número de certificado: CNEx13.0792X), que pode ser amplamente utilizado em campos de extração de petróleo (gás), petroquímicos, farmacêuticos e outras indústrias com altos requisitos à prova de explosão.

Parâmetros técnicos do equipamento de oxidação fotocatalítica UV

Área de aplicação do equipamento de oxidação fotocatálica UV

Tratamento de gases de escape de revestimento, tratamento de gases de escape de pintura, tratamento de gases de escape da indústria de rações, tratamento de gases de escape de produção de tinta, tratamento de gases de escape de moldagem por injeção, tratamento de gases de escape de película de sopro, tratamento de gases de escape de granulação de plástico, tratamento de gases de escape de fábricas de móveis, tratamento de gases de escape químicos, tratamento de gases de escape de fábricas farmacêuticas, tratamento de gases de escape de processamento de alimentos, tratamento de gases de escape de perfumes, tratamento de gases de escap

UV fotocatálise caso de equipamento de oxidação

Projeto: Shaanxi Impressão Co., Ltd. Gestão de gás de escape

Principais ingredientes: tinta e gases de escape de alta temperatura emitidos no forno;

Volume de ar de tratamento: 10000m3/h;

Configuração do equipamento: um equipamento de oxidação fotocatalítica UVuv tipo GY-TQ10000;

Normas de tratamento: implementar o padrão de emissão de poluentes odorosos (GB14554-93) e o padrão local de Shaanxi "limite de emissão de poluentes atmosféricos" (DB4427-2001).