Equipamento de água ultra-pura para semicondutores

Descrição do produto:

Equipamento de água ultra-pura para semicondutoresO uso de pré-tratamento, sistema de osmose inversa, sistema EDI, sistema de mistura de polimento elimina quase o meio condutor da água e elimina os colóides não dissolvidos, gases e matérias orgânicas da água para equipamentos de tratamento de água em um nível muito baixo.

O componente central de desalinização do equipamento de sistema de água ultrapura é o componente de membrana de osmose inversa, e o equipamento de sistema de água ultrapura geralmente consiste em uma parte de pré-tratamento, uma parte de hospedeiro de osmose inversa, um sistema EDI e uma parte de pós-tratamento.

Princípio de funcionamento do EDI:

1, retenção de íons dissolvidos na água da resina.

Os íons retidos sob a ação do eletrodo, os ânions se movem na direção do pólo positivo e os íons caóticos se movem na direção do pólo negativo.

3, catiônico através da membrana catiônica, eliminando a resina / membrana.

4, aniões através da membrana aniônica, eliminando a resina / membrana.

Os íons concentrados são eliminados do fluxo de águas residuais.

A água deionizada flui da resina / membrana.

Equipamento de água ultra-pura para semicondutoresCaracterísticas do produto:

1, alto grau de automação, com função de proteção automática.

2, os componentes de membrana são feitos para enrolamento de membrana composta, mostrando uma maior taxa de separação de solíduo e taxa de transmissão.

3, baixo consumo de energia, alta utilização da água e baixos custos operacionais.

Estrutura razoável, ocupa pouca área.

5, o sistema não tem partes frágeis e não precisa de uma grande quantidade de reparação.

Principais usos:

Produção e limpeza de materiais ultrapuros e reagentes ultrapuros.

Produção e limpeza de produtos eletrônicos.

Produção de produtos de bateria.

Produção e limpeza de produtos semicondutores.

Produção e limpeza de placas de circuito.

Produção de outros produtos de alta tecnologia.